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艾博納微納米科技(江蘇)有限責(zé)任公司

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當(dāng)前位置:艾博納微納米科技(江蘇)有限責(zé)任公司>>儀器設(shè)備>>真空鍍膜機(jī)>> ABN-450-S4磁控濺射鍍膜

磁控濺射鍍膜

參  考  價:面議
具體成交價以合同協(xié)議為準(zhǔn)

產(chǎn)品型號:ABN-450-S4

品       牌:ABNER/艾博納

廠商性質(zhì):生產(chǎn)商

所  在  地:淮安市

更新時間:2025-01-16 16:59:38瀏覽次數(shù):286次

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產(chǎn)地類別 國產(chǎn) 價格區(qū)間 面議
應(yīng)用領(lǐng)域 環(huán)保,化工,能源,印刷包裝,綜合
磁控濺射鍍膜采用電阻式熱蒸發(fā)結(jié)構(gòu),該系統(tǒng)可蒸鍍多種金屬材料(金,、銀、銅,、鋁等),,也可以蒸鍍多種有機(jī)材料(NPB,、ALq3,、BCP,、TPBi、C60等),以及多種無機(jī)材(LiF,、SnO2,、MoO3等)。該系列設(shè)備廣泛應(yīng)用于各高校,、科研院所,、科研實驗室以及企業(yè)前期探索性實驗等。

  磁控濺射鍍膜的產(chǎn)品特點(diǎn):

  1.真空系統(tǒng)

  真空腔體由標(biāo)準(zhǔn)的304不銹鋼焊接而成,,內(nèi)部形狀為長方體,,其尺寸為600mm*600mm*700mm,電解拋光處理,,減少內(nèi)部材料放氣現(xiàn)象,。真空腔體上安裝有電極,基片系統(tǒng),,真空系統(tǒng),氣路系統(tǒng)等部件,;真空腔體配備兩個可以打開的門,,前門為移門,通過與直線導(dǎo)軌,滑塊等裝置連接,,可使前門左右開啟與關(guān)閉,,后期也可以連接手套箱,在手套箱內(nèi)部操作前門開關(guān),,確保整個工作環(huán)境處于氮?dú)饣蚨栊詺怏w氛圍中,;后門旋轉(zhuǎn)門,通過旋轉(zhuǎn)軸實現(xiàn)后門的開關(guān),,開啟后腔體內(nèi)部暴露在空氣中,,主要的目的為維護(hù)檢修,并配一個長方形觀察窗,,配合腔體外部照明燈,,方便觀察腔體內(nèi)部狀況。腔體側(cè)面裝有抽氣主管道,,分子泵,,插板閥,真空計,,充氣閥,,角閥等真空配件,在腔體潔凈,,無污染的情況下,,極限真空5*10-5pa,四十分鐘可達(dá)到大氣至5*10-4pa,,系統(tǒng)停泵關(guān)機(jī)12小時后,,真空度≤5Pa。該系統(tǒng)可以在不停分子泵的前提下,,對腔體內(nèi)部材料添加,、更換,也可以取放基片,。

  2.樣品系統(tǒng)

  該設(shè)備的樣品架采用嵌入式結(jié)構(gòu),,可搭載一片210mm*210mm基片,向下兼容,,也可以搭載多片定制數(shù)量小基片,;基片帶冷卻系統(tǒng);掩模版到基片距離小于0.1mm,。

  樣品架通過旋轉(zhuǎn)軸,,磁流體,聯(lián)軸器,,電機(jī)等裝置連接,,從而可實現(xiàn)0~30轉(zhuǎn)/分鐘,。配備1套基片擋板系統(tǒng),可以根據(jù)實際工作需求開啟與關(guān)閉,。

  3.沉積系統(tǒng)

  該系統(tǒng)配備4組蒸發(fā)源,,可對金屬,有機(jī),,無機(jī)物等材料進(jìn)行蒸鍍,,每組蒸發(fā)源均配備冷卻系統(tǒng),4組蒸發(fā)源按照R-D-matin-ME系列舟蒸發(fā)源設(shè)計,;源和源之間有隔板,,防止交叉污染及隔絕一定溫度輻射。

  各個源均可通過繼電器切換與一臺可編程直流電源連接,,電源設(shè)定為恒流模式,,調(diào)節(jié)電流的大小來對蒸發(fā)源上的負(fù)載進(jìn)行加熱,(TDKGEN8-1801.5KW可編程直流電源,,升溫溫度1500℃,,精度0.1A)從而使得負(fù)載上的材料達(dá)到一定溫度后發(fā)生蒸發(fā)現(xiàn)象。通過膜厚儀上的數(shù)據(jù),,可實時反饋出材料蒸發(fā)的速率(采用1臺InficonSQC-3102通道膜厚儀,,厚度和速率分辨率±0.015?,速率顯示0.01?/s,可同時顯示2個膜厚探頭的讀數(shù)),,沉積厚度等信息,。也可以通過編輯膜厚儀程序,到達(dá)自動蒸鍍的效果,。

  4.控制系統(tǒng)

  磁控濺射鍍膜采用工控機(jī)控制系統(tǒng),,可實現(xiàn)自動一鍵式抽真空,也可以在手動模式下,,控制機(jī)械泵,、角閥、插板閥,、分子泵的開啟和停止,,軟件中含有各個電氣設(shè)備的軟件互鎖和狀態(tài)反饋,確保不會因誤操作導(dǎo)致設(shè)備的損壞,,還可以在手動模式下,,控制基片旋轉(zhuǎn),擋板開關(guān),,電極的切換等一系列操作,。速率控制模式可以設(shè)定蒸發(fā)材料的速率值,與膜厚儀中探頭檢測的實際值比較,,通過速率控制PID模塊調(diào)節(jié)加熱電源的輸出,;通過膜厚儀與工控機(jī)串口通訊,,將蒸發(fā)速率、蒸鍍膜厚和輸出功率一同在軟件中實時顯示,,方便操作人員監(jiān)測實驗過程;登陸軟件需要用戶名和密碼,,不同的用戶名對應(yīng)不同的操作權(quán)限,,確保操作人員不會誤操作到設(shè)備的參數(shù)設(shè)置

  



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