磁控濺射鍍膜的產(chǎn)品特點(diǎn)：

　　1.真空系統(tǒng)

　　真空腔體由標(biāo)準(zhǔn)的304不銹鋼焊接而成,，內(nèi)部形狀為長方體,，其尺寸為600mm*600mm*700mm，電解拋光處理,，減少內(nèi)部材料放氣現(xiàn)象,。真空腔體上安裝有電極，基片系統(tǒng),，真空系統(tǒng)，氣路系統(tǒng)等部件,；真空腔體配備兩個可以打開的門,，前門為移門，通過與直線導(dǎo)軌，滑塊等裝置連接,，可使前門左右開啟與關(guān)閉,，后期也可以連接手套箱，在手套箱內(nèi)部操作前門開關(guān),，確保整個工作環(huán)境處于氮?dú)饣蚨栊詺怏w氛圍中,；后門旋轉(zhuǎn)門，通過旋轉(zhuǎn)軸實現(xiàn)后門的開關(guān),，開啟后腔體內(nèi)部暴露在空氣中,，主要的目的為維護(hù)檢修，并配一個長方形觀察窗,，配合腔體外部照明燈,，方便觀察腔體內(nèi)部狀況。腔體側(cè)面裝有抽氣主管道,，分子泵,，插板閥，真空計,，充氣閥,，角閥等真空配件，在腔體潔凈,，無污染的情況下,，極限真空5*10-5pa，四十分鐘可達(dá)到大氣至5*10-4pa,，系統(tǒng)停泵關(guān)機(jī)12小時后,，真空度≤5Pa。該系統(tǒng)可以在不停分子泵的前提下,，對腔體內(nèi)部材料添加,、更換，也可以取放基片,。

　　2.樣品系統(tǒng)

　　該設(shè)備的樣品架采用嵌入式結(jié)構(gòu),，可搭載一片210mm*210mm基片，向下兼容,，也可以搭載多片定制數(shù)量小基片,；基片帶冷卻系統(tǒng)；掩模版到基片距離小于0.1mm,。

　　樣品架通過旋轉(zhuǎn)軸,，磁流體，聯(lián)軸器,，電機(jī)等裝置連接,，從而可實現(xiàn)0~30轉(zhuǎn)/分鐘,。配備1套基片擋板系統(tǒng)，可以根據(jù)實際工作需求開啟與關(guān)閉,。

　　3.沉積系統(tǒng)

　　該系統(tǒng)配備4組蒸發(fā)源,，可對金屬，有機(jī),，無機(jī)物等材料進(jìn)行蒸鍍,，每組蒸發(fā)源均配備冷卻系統(tǒng)，4組蒸發(fā)源按照R-D-matin-ME系列舟蒸發(fā)源設(shè)計,；源和源之間有隔板,，防止交叉污染及隔絕一定溫度輻射。

　　各個源均可通過繼電器切換與一臺可編程直流電源連接,，電源設(shè)定為恒流模式,，調(diào)節(jié)電流的大小來對蒸發(fā)源上的負(fù)載進(jìn)行加熱，（TDKGEN8-1801.5KW可編程直流電源,，升溫溫度1500℃,，精度0.1A）從而使得負(fù)載上的材料達(dá)到一定溫度后發(fā)生蒸發(fā)現(xiàn)象。通過膜厚儀上的數(shù)據(jù),，可實時反饋出材料蒸發(fā)的速率（采用1臺InficonSQC-3102通道膜厚儀,，厚度和速率分辨率±0.015?，速率顯示0.01?/s,可同時顯示2個膜厚探頭的讀數(shù)）,，沉積厚度等信息,。也可以通過編輯膜厚儀程序，到達(dá)自動蒸鍍的效果,。

　　4.控制系統(tǒng)

　　磁控濺射鍍膜采用工控機(jī)控制系統(tǒng),，可實現(xiàn)自動一鍵式抽真空，也可以在手動模式下,，控制機(jī)械泵,、角閥、插板閥,、分子泵的開啟和停止,，軟件中含有各個電氣設(shè)備的軟件互鎖和狀態(tài)反饋，確保不會因誤操作導(dǎo)致設(shè)備的損壞,，還可以在手動模式下,，控制基片旋轉(zhuǎn)，擋板開關(guān),，電極的切換等一系列操作,。速率控制模式可以設(shè)定蒸發(fā)材料的速率值，與膜厚儀中探頭檢測的實際值比較,，通過速率控制PID模塊調(diào)節(jié)加熱電源的輸出,；通過膜厚儀與工控機(jī)串口通訊,，將蒸發(fā)速率、蒸鍍膜厚和輸出功率一同在軟件中實時顯示,，方便操作人員監(jiān)測實驗過程；登陸軟件需要用戶名和密碼,，不同的用戶名對應(yīng)不同的操作權(quán)限,，確保操作人員不會誤操作到設(shè)備的參數(shù)設(shè)置